第31卷第2期阿Vol 31 Na 22008年02月乙二醇中羥基單保護(hù)的合成方法董桂敏',張志峰2,畢雪艷,王喚雨2(1.華北制藥集團(tuán)新藥研發(fā)公司,河北石家莊050015;2.河北醫(yī)科大學(xué)藥學(xué)院,河北石家莊050017;3.邯鄲市藥品檢驗(yàn)所,河北邯鄲056001)[摘要]以 TBDMS-C1作保護(hù)試劑,介紹了一種乙二醇羥基的單保護(hù)方法。該方法經(jīng)工藝改進(jìn)收率達(dá)882%同時(shí)避免了因乙二醇加入過量造成的浪費(fèi),降低了工藝成本。此外,解決了Na使用過程中引起的易燃易爆問題,使該工藝條件更溫和、易控制、更易于工業(yè)化生產(chǎn)。[關(guān)鍵詞] TBDMS-CI;乙二醇;單保護(hù)中圖分類號(hào)]TQ223.162[文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼]B[文章編號(hào)]1003-5095(2008)02-05702含有兩個(gè)或兩個(gè)以上功能基團(tuán)的化合物是有機(jī)1.1儀器與試劑合成中的一種重要原料或中間體,在許多有機(jī)反應(yīng)中乙二醇、磷鉬酸均為分析純;№aH含量70%(礦物對(duì)其進(jìn)行一步或多步保護(hù)及改造最終可得到多種目油包裹); TBDMS-C1為 Acros organics公司產(chǎn)品;標(biāo)化合物。在該類含有多功能基團(tuán)的化合物中含有兩四氫呋喃(TFF)經(jīng)CaH2回流干燥后蒸出;柱層析用硅個(gè)相同功能基團(tuán)的化合物是較為常見的一種,而且許膠(200~300目)為青島海洋化工廠產(chǎn)品;核磁共振多化合物中的功能基團(tuán)是對(duì)稱性的,如1, diol譜以TMs為內(nèi)標(biāo),用 Varian Inova500核磁共振儀[OH-(CH)。-OH],以該類化合物為起始原料制備其測(cè)定。他產(chǎn)物過程中,首要步驟是將對(duì)稱性二羥基的選擇性1.2實(shí)驗(yàn)過程單保護(hù),有報(bào)道4在反應(yīng)中加入化學(xué)計(jì)量的保護(hù)試1.2.1乙二醇單鈉鹽的合成(化合物Ⅰ)劑和二元醇,可得到單保護(hù)雙保護(hù)及沒有保護(hù)的3500mL圓底燒瓶中加入200 mL THF及9.17種產(chǎn)物,而其中的目標(biāo)化合物—單保護(hù)產(chǎn)物僅占(含量70%礦物油包裹的NaH,攪拌使NaH充分分散50%,為解決該問題以往采用的解決方法之一是在反滴加15m乙二醇,室溫下劇烈攪拌反應(yīng)1h,生成應(yīng)中加入過量的二元醇,得到相對(duì)于保護(hù)試劑來說較大量灰色沉淀即乙二醇單鈉鹽(化合物I)高的收率,多余的二元醇或棄掉或通過柱分離回收重1.2.2乙二醇單硅醚的合成(化合物Ⅱ)復(fù)利用。此外,有報(bào)道采用多聚載體的方法引入單40.3 g TBDMS-CI溶于100mTHF中,攪拌下保護(hù),但過程較為復(fù)雜滴加至化合物I的反應(yīng)液中,控制滴速,使反應(yīng)溫度本文中使用叔丁基-二甲基氯硅烷( TBDMS-Cl)不致太高,滴加完畢,室溫下繼續(xù)攪拌反應(yīng)15h,生作保護(hù)劑,介紹了一種簡(jiǎn)單易行的在乙二醇羥基中引成大量白色固體,TC監(jiān)測(cè)反應(yīng)結(jié)束。反應(yīng)液倒入水入單保護(hù)基的方法。該方法即使在加入化學(xué)計(jì)量的乙中,用2L乙醚提取,有機(jī)相水洗到中性,飽和鹽水洗醇和 TBDMS-C情況下,仍可以88.2%的收率得到滌,無水NasO4干燥。干燥液過濾濃縮,柱層析分離,目標(biāo)化合物(文獻(xiàn)收率為82%),避免了以往報(bào)道中加石油醚/乙酯10:1洗脫,收集目標(biāo)化合物,真空干入過量乙二醇造成的浪費(fèi)及費(fèi)時(shí)費(fèi)力的回收工作,大燥,得油狀化合物Ⅱ41.7g,收率為882%?；衔颕大降低了工藝成本。此外,反應(yīng)中所用的Nal為礦物的HNR(CC160.82(9Hs),0.06(6Hs),2.3(1油包裏,使用前不再經(jīng)有機(jī)溶媒洗滌,避免了在洗滌Hbrs),3.6(4H,m)。和使用過程中因空氣濕度過大引起的易燃易爆問題OH NaH/THF使該方法更易控制、更易于工業(yè)化生產(chǎn)。1實(shí)驗(yàn)部分TH中國(guó)煤化工1CNMH[收稿日期]2007-12-18[作者簡(jiǎn)介]董桂敏(1974-),女,工程師,現(xiàn)從事新藥研發(fā)工(下轉(zhuǎn)第59頁(yè))作第2期王路芳:合成冰機(jī)系統(tǒng)改造及運(yùn)行小結(jié)制甲烷易發(fā)生氣液夾帶,并會(huì)造成弛放氣中氨含量較過濾器。由于循環(huán)水不潔凈,經(jīng)過一段時(shí)間對(duì)循環(huán)水高,液氨損失較大,不利于控制冷交換器和氨分離器進(jìn)行反洗,這樣減少油冷卻器堵塞現(xiàn)象。改造后油溫的液位。放氨壓力不穩(wěn),合成循環(huán)量波動(dòng)較大,爐溫難比以前降低了15℃左右,油壓比以前低0.2MPa,氨控制槽中的氣氨揮發(fā)性大大降低了,在同樣的弛放氣壓力3改造措施及改造后的效果下,進(jìn)入鼓泡塔的弛放氣中氨含量由改造前的改造前后技術(shù)指標(biāo)對(duì)比分析(表1)。850g/m3變?yōu)?00g/m3,降低了無硫氨水的產(chǎn)量,同表時(shí)減小了提氫分子篩中毒的幾率項(xiàng)目改造前改造后3.2新增空氣分離器池放氣壓力/Pa1.451.4將蒸發(fā)式冷凝器中的放空氣管出口安裝空氣分弛放氣氨含量/g"m3850~1000100~120冷交放空氨含量/g“m340離器,并用液氨作為冷卻氣氨介質(zhì),這樣放空氣中夾凈氨塔出口氨含量/g"m0.3-0.6<0.17帶的氣氨經(jīng)空氣分離器后,不凝氣放空,汽化的液氨油冷介質(zhì)液氨循環(huán)水回到冰機(jī)入口,液化的氣氨回到氨槽,減少了氨的損油冷介質(zhì)溫度/℃0~2提H2出口H含量偉%排氣溫度/℃7994失3.3合成由冷交換器“前放”改為“后放油溫/℃在冷交換器后放空的氣體直接進(jìn)入鼓泡塔,而不油壓/Pa是直接進(jìn)入氨槽,放空氣中氨含量比以前減少了;冷無硫氨水產(chǎn)量/t/班交換器和氨分離器的液位控制較平穩(wěn);減小了甲烷氣液氨產(chǎn)量/t液夾帶現(xiàn)象,循環(huán)量波動(dòng)較平穩(wěn),爐溫也更容易操作分子篩的影響暫時(shí)中毒無4經(jīng)濟(jì)效益分析吸氣壓力MPa0.070.07排氣壓力/Pa經(jīng)改造后,液氨產(chǎn)量提高了,無硫氨水產(chǎn)量降低蒸發(fā)冷出口溫度/℃了,減少了液氨的損失,由于液氨價(jià)格相對(duì)較高,年可3.1將油冷卻器冷卻介質(zhì)由液氨冷卻改為循環(huán)水冷多產(chǎn)氨1000多t,年多創(chuàng)收200萬(wàn)t左右,經(jīng)濟(jì)效卻益顯著,由于“二氣'出口氨含量的降低,“使二氣”出為了降低作為冷卻介質(zhì)液氨的溫度,減少氨的揮口氣體氨含量達(dá)100%的合格率,而且大大延長(zhǎng)了提發(fā),改為循環(huán)水冷卻,并在油冷卻器前安裝了循環(huán)水氫分子篩的使用壽命。(上接第57頁(yè))[參考文獻(xiàn)][4]G H Hakimelahi, Z A Proba, KK Ogilvie. Tetrahedron Lett [j][1R E Donaldson, P L Fuchs. J Am. Chem. Soc. [1, 1981, 103, 2 108.1981,22,4775[2lP G McDougal, J G Rico, Y-1. Oh, B D Condon.I. Org. Chem [, [5JT Yokomatsu, K Suemune, T Yamagish-i, et al. Synlett LI1986,51,33881995,847.3IG H Hakimelahi, Z A Proba, KK Ogilvie. Tetrahedron Lett[l, [6]K K Ogilive, D P C McGee, S M Boisvert, et al. Can J.Chen1981,2,5423.[J],1983,61,1204A Convenient Methord for the Monoprotection of Ethylene GlycolZhi-feng2,BI瓦(1. NCPC New Drugs R& D Centers, Shijiazhuang 050015, China: 2. Pharmaceutical College, Hebei Medical University, Shijzhuang 050017, China: 3. Handan Institute For Drug Control, Handan 056001, China)Abstract: This essay intuoduced a convenient procedure for the momosilylation of ethylene glycol by the protection ofTBDMS-CI with the yield of 88. 2% This technics avoid the wast of matplosible problems caused by the use of NaH, this synthetic process iH中國(guó)煤化工ibe industrialCNMHGTBDMS-Cl: ethylene glycol; monoprotection