本文件適用于半導(dǎo)體單晶晶向的測定。X射線衍射定向法適用于測定硅、鍺、砷化鎵、碳化硅、氧化鎵、氮化鎵、銻化銦和磷化銦等大致平行于低指數(shù)原子面的半導(dǎo)體單晶材料的表面取向;光圖定向法適用于測定硅、鍺等大致平行于低指數(shù)原子面的半導(dǎo)體單晶材料的表面取向。
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GB/T 1555-2023 正式版 半導(dǎo)體單晶晶向測定方法 GB/T 1555-2023 正式版 半導(dǎo)體單晶晶向測定方法

GB/T 1555-2023 正式版 半導(dǎo)體單晶晶向測定方法

  • 標(biāo)準類別:[GB] 國家標(biāo)準
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  • 標(biāo)準編號:GB/T 1555-2023 正式版 半導(dǎo)體單晶晶向測定方法
  • 標(biāo)準狀態(tài):現(xiàn)行
  • 更新時間:2023-11-08
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本文件描述了X射線衍射定向和光圖定向測定半導(dǎo)體單晶晶向的方法。 本文件適用于半導(dǎo)體單晶晶向的測定。X射線衍射定向法適用于測定硅、鍺、砷化鎵、碳化硅、氧化鎵、氮化鎵、銻化銦和磷化銦等大致平行于低指數(shù)原子面的半導(dǎo)體單晶材料的表面取向;光圖定向法適用于測定硅、鍺等大致平行于低指數(shù)原子面的半導(dǎo)體單晶材料的表面取向。 替代GB/T 1555-2009

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